得用反轉磁控濺射刻蝕模塊進(jìn)行的實(shí)驗工作的結果如圖7所示。薄的鐵膜層利用EB-PVD沉積在熱浸鍍鋅鋼板上。接下來(lái)，應用一次加熱后處理促使鐵鋅之間的如前面章節所述的相互擴散和合金形成。如果沒(méi)有PVD鍍膜前的等離子體清洗的話(huà)，鐵鋅間的相互擴散就會(huì )受到帶表面的薄而致密的氧化層的強烈影響，盡管仍然進(jìn)行熱退火處理，但已經(jīng)形成了分隔的膜層。在鍍膜工藝前用中頻電源進(jìn)行等離子體清洗且除此之外一切條件和上面相同的條件下，將會(huì )發(fā)現有非常不同的情形。氧化層幾乎完全去除，同時(shí)通過(guò)鐵擴散到熱浸鋅膜層從而形成一層合金膜。

電弧增強輝光放電刻蝕這個(gè)模塊的設計原理和濺射刻蝕模塊的設計原理相似(圖8。取代在基底背面的磁控系統的是與空心陽(yáng)極底部結合的電弧蒸發(fā)器，電板蒸發(fā)器利用擋板與基底隔開(kāi)。在基底附近的附加電極收集來(lái)自擋板后面的電弧等離子體的電子。這些電子在基底附近產(chǎn)生一個(gè)強且寬的等離子體。等離子體的密度可以輕易地利用蒸發(fā)器的電流和附加電極來(lái)控制。在操作中，與在反轉磁控濺射情況下相同的直流或中頻電源可以用于提供空心陽(yáng)極的偏壓。在初步的試驗中，已經(jīng)發(fā)現對于鋼帶的刻蝕率在12nm/s的級別內，并且僅使用了濺射刻蝕模塊所需偏壓電源的一半。

不銹鋼鍍鈦電話(huà)工藝有：真空鍍膜和噴涂工藝等真空鍍膜包括：磁控濺射法，電弧離子鍍法等，如果在鍍膜過(guò)程中通入氮氣可以形成氮化鈦，鍍層顏色金黃色，否則白色。該方法鍍層薄，一般在1—5個(gè)微米左右，鍍層光亮不需要后續加工。噴涂的方法有冷噴涂法。涂層很厚可以達到毫米量級，表面粗糙需要后續加工碳化鈦與氮化鈦鍍層的區別：顏色不同，碳化鈦（黑色）氮化鈦（金色）硬度不同，碳化鈦比氮化鈦硬度高，但抗高溫氧化性能碳化鈦不如氮化鈦，因此衍生出碳氮化鈦膜。近些年還比較流行的有氮化鈦鋁，氮化鉻膜等。